Το Asml δημιουργεί νέες μηχανές euv για μελλοντικούς κόμβους 7nm + και 5nm

Πίσω από κατασκευαστές όπως η TSMC, η GlobalFoundries, η Samsung και η Intel, υπάρχουν εταιρείες όπως η ASML, οι οποίες με τα μηχανήματα και τις τεχνολογίες τους, βοηθούν στην κατασκευή κορυφαίων τσιπ. Σήμερα, το ASML φαίνεται να έχει σε λειτουργία ένα νέο μηχάνημα 410W EUV, το οποίο θα χρησιμεύει στη μαζική παραγωγή CPUs και GPUs στα 7nm και μικρότερα.

Η ASML κατασκευάζει τις μηχανές EUV (Extreme UltraViolet) που θα είναι ζωτικής σημασίας για μελλοντικούς κόμβους 7nm +, 5nm και μικρότερων

Το 7nm έρχεται και είναι ένα σημαντικό άλμα που θα επηρεάσει την απόδοση των επεξεργαστών και των καρτών γραφικών, μεταξύ άλλων τμημάτων, αλλά πέρα ​​από αυτό, οι κατασκευαστές πυριτίου θέλουν να συνεχίσουν να βελτιώνουν τη διαδικασία παραγωγής κόμβων. Η TSMC έχει ήδη σχεδιάσει την εφαρμογή της τεχνολογίας EUV (Extreme UltraViolet) στους επόμενους κόμβους 7nm +, οι οποίοι θα συμβάλουν στη βελτίωση των στοιχείων παραγωγής και στη βελτίωση της πυκνότητας με μεγαλύτερο αριθμό τρανζίστορ.

Αυτό είναι όπου τα μηχανήματα EUV μπαίνουν στο παιχνίδι και είναι κρίσιμα. Σήμερα, οι μηχανές ASML είναι σε θέση να τροφοδοτούν φως 250 W, αλλά απαιτούνται μηχανές υψηλότερης ισχύος για τη δημιουργία ταχύτερου ρυθμού πυριτίου EUV (chips). Η ισχύς εξόδου αυτών των μηχανών είναι ενδεικτική του αριθμού των φωτονίων που μπορούν να εκτεθούν σε πυρίτιο σε δεδομένο χρόνο, πράγμα που σημαίνει ότι οι μονάδες υψηλότερης ισχύος θα είναι σε θέση να ολοκληρώσουν την εργασία τους σε δίσκο πυριτίου με ταχύτερο ρυθμό, επιταχύνοντας παραγωγή.

Το Spectrum ανέφερε ότι η ASML προμηθεύει ένα μηχάνημα με πηγή ισχύος 410W EUV που λειτουργεί στα εργαστήριά της, ενεργώντας ως η πιθανή βάση για τα μηχανήματα EUV της επόμενης γενιάς EUV. Αυτή τη στιγμή, το μηχάνημα 410W δεν είναι ικανό να παράγει μάρκες ακόμα, αν και είναι σίγουρα ένα σημαντικό βήμα σε αυτή την τεχνολογία, που θα βοηθήσει τους μεγάλους κατασκευαστές πυριτίου να βελτιώσουν την παραγωγή τους.

Η τεχνολογία EUV θα διαδραματίσει πολύ μεγαλύτερο ρόλο στους μελλοντικούς κόμβους διεργασίας 5nm ή μικρότερου μεγέθους όπου θα είναι κρίσιμοι.